大佛巖摩崖造像（第三批）。
保護范圍：東向以1號龕為基點沿巖壁外延30米，南向以山腳為基點外延20米，西向以23號龕為基點沿巖壁外延30米，北向以山頂為基點外延10米。
建設控制地帶：保護范圍外延30米。
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